316 Lmod  1. 4435 725LN  310 MoLN 단조 소켓 용접 SW 스레드 파이프 피팅 피팅

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316 Lmod 1. 4435 725LN 310 MoLN 단조 소켓 용접 SW 스레드 파이프 피팅 피팅

 

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316 Lmod 우레아 강 (1. 4435, 1 8-1 4-3)

UREA 316 L 수정 등급은 우레아 플랜트 애플리케이션을 위해 특별히 개발되었습니다. 실리콘 함량이 매우 낮고 몰리브덴 함량이 상당히 높은 316 L 수정 스테인리스 강입니다.
탄소 함량이 낮고 균형이 잘 잡힌 화학 물질 (실리콘 및 니켈 함량이 14 %에 가깝 음)과 결합하면 합금 간을 완전히 오스테 나이트 화하고 금속 간 상 침전이 없습니다. 페라이트 수준은 용액 어닐링 및 물 담금질 조건에서 0. 5 % 미만으로 유지됩니다.
이 합금은 우레아 카보네이트 환경에서 내식성이 향상되도록 설계되었습니다.

사용되는 충전재의 일반적인 화학은 다음과 같습니다.
Cr Ni Mo Mn N
20% 16% 3% 6.5% 0.2%

EN 10088 / EN 10028 ......... X 2 Cr Ni Mo 18-14-3-1. 4435
AFNOR ................................ Z 3 CND 18. {{2} }.{{삼}}
DIN ...................................... W.Nr 1. {{ 1}}
ASTM. ............................... 316 L 수정

Alloy CLI UREA Modified는 용액 어닐링 열처리 (1120-1180C (2048-21 5 6F) / 물 담금질) 후 페라이트 함량이 0. 5 % 미만으로 보장되는 완전 오스테 나이트 계 스테인리스 강입니다. 탄소 함량은 낮게 유지되고 철강의 청정도 특성을 개선하기 위해 철강 제조가 최적화됩니다. 이 합금은 요소 적용 (저탄소 및 실리콘 함량)을 위해 설계되었습니다.
Huey 테스트 (ASTM A 262 C-다섯주기 48 h.) 이후 다른 사양에 따라 요구되는 일반적인 최대 부식 결과는 다음과 같습니다. 최대 체중 감소가 3, 3 µm / 48 h (ª 130 24 h. 당 ㎎ / dm²), 장 방향의 미세 균열 200 µm의 최대 깊이 및 {{9} 횡 방향으로 µm.

열간 성형
열간 성형은 피스를 균일하게 열처리 한 후 1200-950C (2732- 1742F)의 온도 범위에서 수행해야합니다. 요청 된 미세 구조를 얻기 위해서는 최종 풀 어닐링 tremperature가 필요합니다. 1120-1180C (2048-2156F)에이어서 물 담금질이 수행 될 것이다.

냉간 성형
완전 오스테 나이트 미세 구조로 인해, 합금은 아무런 문제없이 냉간 성형 될 수있다. 강철의 몰리브덴 함량이 높고 냉간 경화 거동은 스테인리스 강보다 더 강력한 장비가 필요할 수 있다고 설명합니다.

산세
UREA 수정 등급은 산세 및 부동 태화 조건에서 사용해야합니다. 산세 처리는 실온 (몇 시간) 또는 약 20 분에서 니트로-불화 수소산 조 (10-2 0 % HN03-1.5-5 % HF)로 수행 될 수있다. 60 C (140 F)에서 10-2 0 % H 2 SO4-1.5-5 % HF 산 세척 욕도 사용할 수 있습니다.
Alloy UREA Modified는 SMAW, SAW 또는 FCAW 공정뿐만 아니라 TIG, Plasma, MIG 용접과 같은 대부분의 용접 공정으로 용접 할 수 있습니다.
이 합금은 완전 오스테 나이트 미세 구조로 인해 열간 균열 현상에 민감합니다.
초저 페라이트 함량, 탄화물 또는 질화물 침전 없음, 낮은 실리콘 함량 및 금속 간 상 침전 없음을 얻기 위해 용접을 수행해야합니다.
더 높은 망간 함량 제품이 고려되어야한다.

열간 균열 감수성을 줄이기 위해 기본 코팅 된 전극 또는 플럭스를 사용하십시오. 열 입력은 1, 5 kJ / mm로 제한되고 인터 패스 온도는 1 50C (302 F) 미만으로 유지되어야합니다.
Huey 테스트 솔루션의 일반적인 부식 테스트 결과-ASTM A262-C는 다음과 같습니다.
최대 체중 감량 3. 3 µm / 48 h-0, 54 g / m² h, 선택적 공격이 200 µm보다 낮습니다.


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